技術(shù)文章
Technical articles1、空氣的液化溫度取決于空氣的組成成分。一般來說，空氣主要由氮氣、氧氣和少量其他氣體組成。在標準大氣壓下（約為1個大氣壓，相當(dāng)于101.325千帕），液態(tài)氮的沸點約為-196攝氏度（-321華氏度），液態(tài)氧的沸點約為-183攝氏度（-297華氏度）。因此，空氣的液化溫度應(yīng)該在這兩個溫度之間。請注意，這些數(shù)值是在標準條件下給出的，實際情況可能會受到氣壓和空氣成分的變化而有所不同。2、當(dāng)空氣的溫度降低到液氮的沸點-196攝氏度（-321華氏度）以下時，氮氣成分會開始液化，從氣體狀...
探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.不良晶片產(chǎn)生解決方案：更換晶片b.晶片接近其使用壽命解決方案：更換晶片c.晶片支承座表面有雜物解決方案：用酒精或細砂皮清洗支承座d.來自濺射源的頻率干涉解決方案：檢查接地，儀器遠離濺射源2、沉積期間晶體停振，但晶片壽命未到a.晶片被來自鍍膜源熔化材料小熔滴撞擊解決方案：鍍膜起始階段用檔板遮蔽后移開b.不良晶片解決方案：更換晶片c.晶片支承座內(nèi)腔表面有雜質(zhì)解決方案：清洗3、晶體在真空中振蕩，單暴露空氣后停振a.晶體接近使...
直流負壓濺射和直流濺射在直流濺射中，帶正電的離子被吸引到接地的、帶負電的濺射靶上，從靶材上濺射出原子，然后這些原子在樣品（也稱為襯底）上沉積形成薄膜。通常情況下，濺射靶被接到正極，而樣品端（襯底）被接到負極或接地。然而，有些情況下（如反濺射或偏壓濺射），樣品端會被接到正極以吸引多余的離子，從而實現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜和基底的結(jié)合強度。這種電源連接方式可以提高薄膜的層內(nèi)應(yīng)力，改善其結(jié)晶性能，以及提高薄膜沉積效率。這種操作需要一定的注意事項，因為樣品端上高電壓可能會...
微型探針臺是一種可以在不同溫度下對材料進行電學(xué)性能測試的設(shè)備，它有多種類型和應(yīng)用，主要用于科學(xué)研究和教育實驗。微型探針臺的工作原理是通過探針與樣品接觸，形成電路，然后通過電學(xué)儀表測量樣品的電阻、電容、電流、電壓等參數(shù)，從而分析材料的特性。微型探針臺可以測試不同尺寸和形狀的樣品，例如晶圓、芯片、封裝器件、光電器件、材料片等。微型探針臺是一種高精度、高效率、高靈活性的測試設(shè)備，對于推動材料科學(xué)和半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展有重要作用。優(yōu)點：體積小，便于搬運和安裝。精度高，能夠?qū)ξ⒚准壍臉悠愤M...
高溫蒸鍍的時候，靶材和坩堝應(yīng)該怎么選擇蒸鍍鍍鋁建議客戶用陶瓷坩堝：用鎢舟的話容易附著上邊且鋁融化后有一定的浸潤會與鎢舟形成合金鎢舟容易脆裂斷開，鋁極易氧化可以多抽一會真空真空度越低效果越好蒸鍍鍍鎳建議客戶用鎢棒慘繞鎳絲，鎢舟很薄在一定溫度下化合生成合金相加速鎢的斷裂解決方案：用1.5-2mm的鎢棒長度95-100中間10mm處繞高純鎳絲(纏繞緊密一些可慘繞2層)
小型蒸鍍儀的工作環(huán)境需要保持極低的氣壓，通常在10-4至10-7帕之間。這種低氣壓環(huán)境能夠有效減少氧氣和水蒸氣對材料表面的反應(yīng)，從而避免蒸鍍過程中可能產(chǎn)生的氧化等不良反應(yīng)。真空系統(tǒng)通常由泵、閥門、壓力計和真空室等組成。小型蒸鍍儀的使用方法：1.準備工作：先將蒸鍍儀所需的材料和設(shè)備準備齊全，如鍍膜材料、基底材料、控制系統(tǒng)等。2.裝載基底：將待鍍膜的基底材料放置在蒸鍍儀的樣品臺上，確保基底表面干凈且無硬性顆粒。3.準備鍍膜材料：根據(jù)實際需要，選擇合適的鍍膜材料，并將其放置在蒸鍍儀...
等離子清洗機的優(yōu)勢：1：真空度：用皮拉尼原理測量精確到Pa，千帕是用壓力規(guī)測試，不是一個量級的。2：傳感器：用的進口的氣體流量傳感器，是質(zhì)量流量計檢測氣體，精確度是通入流量的±1.5%。浮子流量計，是滿量程的4%，而且浮子球是上下浮動，手碰一下亂跑，真實效果達不了那么高。4：功率是150W，國內(nèi)都是統(tǒng)一的。5：2路流量計，質(zhì)量流量計采集更精準，流量控制2個精密針閥調(diào)節(jié)，線性調(diào)節(jié)度較好。6：真空采集皮拉尼原理真空計，測量大氣壓到0.1Pa的絕對真空。7：通過精準的...
小型濺射儀利用高能離子束轟擊靶材料，使其原子或分子從靶材料上解離，并沉積在基板表面上，形成覆蓋層。通過調(diào)節(jié)離子束的能量和強度，可以實現(xiàn)不同性質(zhì)的薄膜制備。這種技術(shù)被廣泛應(yīng)用于材料表面的改性和制備高質(zhì)量薄膜材料。主要用于制備薄膜材料，如金屬薄膜、氧化物薄膜等。這些薄膜具有良好的準晶結(jié)構(gòu)和化學(xué)性質(zhì)，廣泛應(yīng)用于光電子、信息技術(shù)、磁學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。在選購小型濺射儀時，可以考慮以下幾個因素：1.薄膜材料種類：不同的型號適用于不同種類的薄膜材料，如金屬薄膜、氧化物薄膜、半導(dǎo)體材料等。...
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