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產(chǎn)品中心材料樣品處理等離子清洗機KT-S2DQX等離子清洗機刻蝕
產(chǎn)品簡介
等離子清洗機刻蝕KT-S2DQX，采用高純石英腔體，150W，13.56MHz，觸摸屏控制。桌面式儀器，操作簡單
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,綜合 |
等離子清洗機刻蝕KT-S2DQX應(yīng)用領(lǐng)域：光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物。清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。高分子材料表面的修飾。封裝領(lǐng)域中的清洗和改性，增強其粘附性，適用于直接封裝及粘和。改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
等離子清洗機刻蝕KT-S2DQX
供電電源 | AC220V（AC110V可選) |
工作電流 | 整機工作電流不大于3.5A(不含真空泵) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | ＜0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆，手動匹配 |
耦合方式 | 電容耦合 |
真空度 | ≤100Pa |
腔體材質(zhì) | 高純石英 |
腔體容積 | 2L(內(nèi)徑110MMX深度220MM) |
觀察窗內(nèi)徑 | Φ65 |
氣體流量 | 10—100ml/min（其他量程可選） |
過程控制 | 過程手動控制 |
清洗時間 | 手動開關(guān) |
開蓋方式 | 鉸鏈側(cè)開式法蘭 |
外形尺寸 | 400x380x360mm |
重量 | 23Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
冷卻方式 | 強制風冷 |
標配 | KF16真空管1米，kf16卡箍2個，不銹鋼網(wǎng)匣1個，電源線一根，說明書一本。 |
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