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高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡單，更有工藝儲存等功能。采用電子束蒸鍍金膜時,會有微小的黑色顆粒出現在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間。

粉末坩堝蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專為科研院所及實驗室用戶群體設計開發的一款小型高真空蒸發鍍膜系統。蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動或自動開/關擋板，達到及時遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡單，更有工藝儲存等功能。

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸發鍍膜系統。蒸發源可兼容金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進電鍍層附著能力，及抗蝕能力。

等離子清洗機鄭科 探KT-S2DQX通常被用在 一：等離子表面活化/清洗；二：等離子處理后粘合;三： 等離子蝕刻/活化 四： 等離子去膠;五：等離子涂鍍(親水,疏水); 六： 增強綁定性；七：等離子涂覆；八：等離子灰化和表面改性等場合。 通過其處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。

三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜。儀器結構緊湊，全自動控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術，進行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣層的制備工藝及性能研究，對于指導薄膜傳感器工藝設計及應用的快速發展，具有十分重要的理論意義及較好的工程應用價值。